定制設(shè)計(jì)的保護(hù)膜電路：我們?cè)O(shè)計(jì)和制造的，特定于應(yīng)用程序的各種微型電子應(yīng)用陶瓷及石英襯底保護(hù)膜電阻/導(dǎo)體電路。一些電阻層的化學(xué)計(jì)量比的保護(hù)膜是計(jì)算機(jī)控制的，以達(dá)到預(yù)期的TCR與片電阻值，這也是鈍化層施加必要的。關(guān)于它的導(dǎo)電模式主要是這些通常是由若干層組成，選擇，以滿(mǎn)足復(fù)雜的要求的粘附，擴(kuò)散阻擋層，接觸電阻，焊接性，熱管理等相關(guān)的導(dǎo)電性的一些系統(tǒng)是鈦，金，鉻/鎳/金，鉻/銅/金，鈦/鉑/金等。
　　多層沉積不破壞真空的情況下，為高可靠性。鉆石襯底和碳化硅襯底的保護(hù)膜金屬化，由于其優(yōu)異的導(dǎo)熱性，鉆石和碳化硅襯底正在更頻繁地使用的半導(dǎo)體和光電器件在性能優(yōu)異的熱管理。這也需要使用到專(zhuān)有工藝，我們現(xiàn)在可以這些基本上成長(zhǎng)和堅(jiān)固耐用的超薄保護(hù)膜的各種金屬，使它們適合用于安裝電子元器件。離子束輔助沉積保護(hù)膜是它的另外一種類(lèi)別，使用的多功能考夫曼型離子束源，現(xiàn)在可以增長(zhǎng)最高品質(zhì)的保護(hù)膜具有許多獨(dú)特的性質(zhì)，對(duì)基材的粘結(jié)強(qiáng)度高。降低應(yīng)力保護(hù)膜可以在很大程度上對(duì)光學(xué)層的折射率形成增加和傳輸作用。
　　保護(hù)膜改進(jìn)的階梯覆蓋涂層部分，具有復(fù)雜的形狀，然而它也是影響化學(xué)計(jì)量各種有益的方式。致密的鈍化層沉積反應(yīng)諸如氮化硅和一氧化硅的離子束預(yù)清洗過(guò)程：在這個(gè)過(guò)程中，我們可以通過(guò)采用，除去本地污染物和/或氧化物基板上，否則可能會(huì)抑制附著力和電接觸，形成沒(méi)有特殊效用的接觸。當(dāng)然如果您需要了解更多產(chǎn)品知識(shí)，可以登錄我們的網(wǎng)站查看。